2022年12月11日 星期日

(專利 定暫時狀態處分) CMC Materials v. 美商羅門哈斯研磨材料:法院駁回專利權人定暫時狀態處分的聲請。

最高法院111年度台抗字第703號民事裁定(2022.8.18)

再抗告人 美商CMC材料股份有限公司CMC Materials, Inc.

上列再抗告人因與相對人美商羅門哈斯研磨材料股份有限公司等間聲請定暫時狀態處分事件,對於中華民國111年2月18日智慧財產及商業法院裁定(111年度民暫抗字第1號),提起再抗告,本院裁定如下:

主 文
再抗告駁回。

理 由

按對於抗告法院所為抗告有無理由之裁定再為抗告,僅得以其適用法規顯有錯誤為理由,民事訴訟法第486條第4項規定甚明。是當事人對於抗告法院所為抗告有無理由之裁定再為抗告,就該裁定如何適用法規顯有錯誤,應有具體之指摘。否則,其再抗告自難認為合法。而所謂適用法規顯有錯誤,係指原法院本其取捨證據之職權所確定之事實適用法規顯有錯誤而言,不包括認定事實不當之情形在內。

本件再抗告人對於原法院所為其抗告無理由之裁定再為抗告,無非以:伊提出聲證4-6 ,用以釋明相對人客觀上有在臺灣製造侵害伊系爭專利之Optiplane2300、Optiplane2600系列研磨液產品(下稱系爭產品)之能力,進而主張其無法自美國進口後,極有可能轉而在臺灣製造系爭產品,可見本件定暫時狀態處分有急迫危險之必要性。又釋明之證據,不以當庭立即提出者為限,法院認定適當不延滯訴訟得調查者均屬之。伊聲請原法院命相對人提出民國110 年7月8日後迄今有關系爭產品之進口資料,只需法院命相對人提出或函詢財政部關務署即可取得,原法院疏未考量該項證據性質,即認伊未盡釋明之責。另聲證10、11,為美國國際貿易委員會(ITC )初步認定系爭產品侵害系爭專利相應案之美國專利第721號之裁定,及Dauskardt所提專家意見書,已足釋明相對人之系爭產品侵害伊系爭專利之事實,原法院未為調查,逕稱該2 證據無從作為本件聲請依據,遽認本件無定暫時狀態處分之必要性,適用法規顯有錯誤云云,為其論據。

惟查再抗告人所陳上述理由,係屬原法院認定再抗告人之聲請不具定暫時狀態處分必要性之事實當否之問題,要與適用法規是否顯有錯誤無涉,依上說明,其再抗告自非合法。

末查,第三審法院應以第二審判決所確定之事實為判決基礎,上開規定於再抗告程序準用之,此觀民事訴訟法第476條第1項、第495條之1第 2項規定甚明,是在第三審不得提出新攻擊或防禦方法。再抗告人提起再抗告後,始行提出之再抗證12(智慧財產及商業法院 111年6月9日函)、再抗證13(財政部關務署111年6月15日函)均為新證據,本院不得審酌,附此敘明。

據上論結,本件再抗告為不合法。依民事訴訟法第495條之1第 2項、第481條、第444條第1 項、第95條、第78條,裁定如主文。
 
最高法院民事第五庭
審判長法官 袁 靜 文
法官 陳 靜 芬
法官 石 有 為
法官 許 秀 芬
法官 林 金 吾 

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